在帶有經(jīng)典立方體加熱室的真空爐中，可用空間受到垂直和水平室壁的限制。加熱系統(tǒng)由石墨元件組成。冷卻氣體由特殊的氣體分配器從下到上分配，反之亦然。氣體方向可以通過溫度和時間來控制。

優(yōu)勢：

• 特別適用于大面積批量的熱處理
• 模塊化設(shè)計
• 即使在最具挑戰(zhàn)性的條件下也能獲得一致的治療效果
• 加熱和冷卻過程中無與倫比的溫度均勻性
• 根據(jù)您的要求提供加熱和淬火特性
• 符合所有現(xiàn)行航空標(biāo)準(zhǔn)（AMS 2750 E、NADCAP 等）
• 通過觸摸屏進(jìn)行簡單安全的作
• 自有引導(dǎo)系統(tǒng) “hestia”
• 各種高真空選項(xiàng)：油擴(kuò)散泵、渦輪分子泵、低溫泵
• 服務(wù)友好
• 高效節(jié)能

標(biāo)準(zhǔn)：

類型 可用空間
（寬x高x長，單位為毫米）
VWQ 446 400 x 400 x 600
VWQ 669 600 x 600 x 900
VWQ 9812 900 x 800 x 1200

可根據(jù)要求提供其他尺寸和技術(shù)數(shù)據(jù)