Silicon Valley Microelectronics SVM 磷/銻/砷摻雜劑的 N 型晶圓

Silicon Valley Microelectronics SVM 磷/銻/砷摻雜劑的 N 型晶圓

Silicon Valley Microelectronics 提供各種帶有磷/銻/砷摻雜劑的 N 型晶圓,直徑從 50mm 到 300mm 不等。

N 型晶圓

純硅不導(dǎo)電,因此很少用作半導(dǎo)體。為了將純硅制成實(shí)用的半導(dǎo)體,必須添加一定量的雜質(zhì)。雜質(zhì)的加入會改變導(dǎo)電性,使硅變成半導(dǎo)體。向本征或純材料中添加雜質(zhì)的過程稱為摻雜,雜質(zhì)稱為摻雜劑。摻雜后,本征材料成為外征材料。實(shí)際上,只有在摻雜之后,這些材料才能使用。

當(dāng)雜質(zhì)原子添加到硅中而不改變晶體結(jié)構(gòu)時,會產(chǎn)生 N 型材料。在某些原子中,電子的價帶中有五個電子,例如磷 (P)、砷 (As) 和銻 (Sb)。用任何一種雜質(zhì)摻雜硅都不得改變晶體結(jié)構(gòu)或鍵合過程。雜質(zhì)原子的額外電子不參與共價鍵合,因此可以自由移動。只需要非常少量的雜質(zhì)即可產(chǎn)生足夠的自由電子,使電流流過硅。N 型硅是良導(dǎo)體。電子帶負(fù)電荷,因此得名 N 型。下圖顯示了添加雜質(zhì)原子后硅晶體的變化。

由于 N 型硅的導(dǎo)電性能,它被廣泛用于功率器件、二極管和晶體管等許多應(yīng)用。

直徑:76mm/100mm/125mm

直徑:200mm

直徑:300mm

硅片硅片硅片
類型/摻雜劑:N – Phos/Sb/As類型/摻雜劑:N – Phos/Sb/As類型/摻雜劑:N – Phos/Sb/As
方向: <100>方向: <100>方向: <100>
電阻率:0-100 ohm-cm電阻率:0-100 ohm-cm電阻率:0-100 ohm-cm
厚度:381μm/525μm/625μm +/- 20μm厚度:725μm +/- 20μm厚度:775μm +/- 20μm
TTV:< 10μmTTV:< 5μmTTV:< 5μm
平面:1 或 2/ SEMI 標(biāo)準(zhǔn)缺口:SEMI 標(biāo)準(zhǔn)缺口:SEMI 標(biāo)準(zhǔn)
單面拋光單面拋光雙面拋光
顆粒 (LPD):<=20@>=0.3 微米顆粒 (LPD):<=50@>=0.2um顆粒 (LPD):<=50@>=0.2um

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