Quantum Northwest qX2 比色皿控溫支架,測量吸收光譜用,標(biāo)準(zhǔn)溫度0°C到110°C

qX2是一個溫度控制的比色皿控溫支架,帶有兩個光學(xué)端口,用于吸收光譜或可使用這兩個端口執(zhí)行的實(shí)驗(yàn)。這是完全由用戶安裝和修改的最便宜的版本。使用qX2 比色皿控溫支架設(shè)置并保持精確的樣品溫度,并以穩(wěn)定的可重復(fù)速率攪拌,同時(shí)將反應(yīng)杯浸泡在受控的氣體環(huán)境中。盡管依賴于快速、精確的帕耳帖技術(shù),但從0°C到110°C的正常運(yùn)行不需要循環(huán)水。

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購買低溫選項(xiàng),包括帶窗護(hù)套和液體冷卻功能,從0°C到-35°C操作qX2 比色皿控溫支架。

購買擴(kuò)展溫度選項(xiàng),將操作擴(kuò)展到110°C到150°C以上。使用TC 1B溫度控制器控制qX2 比色皿控溫支架。

對于額外的控制和溫度監(jiān)控,請使用Quantum Northwest的計(jì)算機(jī)控制軟件T-App。

qX2 比色皿控溫支架產(chǎn)品特點(diǎn):
快速、精確的帕耳帖溫度控制
精密步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動磁力攪拌
低溫工作用干氣吹掃
提高溫度穩(wěn)定性的蓋子
安裝窗口或過濾器的螺紋插入件
控制照明體積的光學(xué)狹縫夾持器
用于移除反應(yīng)杯的反應(yīng)杯升降器
樣本溫度探頭輸入
NIST可追蹤溫度校準(zhǔn)

qX2 比色皿控溫支架技術(shù)規(guī)格:
控制比色皿數(shù):1
應(yīng)用:吸收光譜
標(biāo)準(zhǔn)比色皿尺寸(外部)12.5 mm x 12.5 mm
每個比色皿的光學(xué)端口:2個
光學(xué)端口尺寸:12 mm高x 10 mm寬
比色皿z高度15 mm
提供有窗護(hù)套:有
工廠設(shè)定溫度范圍:-40°C至+110°C
容易達(dá)到的溫度范圍:-5°C至+110°C
低溫選項(xiàng)范圍:-35°C至+110°C
擴(kuò)展溫度選項(xiàng)范圍:-35°C至+150°C
溫度精度±0.02°C
接受熱敏電阻探頭:探頭/QNW3
磁力攪拌電機(jī)類型:步進(jìn)電機(jī)
磁攪拌轉(zhuǎn)速范圍:1-2500rpm
默認(rèn)攪拌速度:1200 rpm

qX2 比色皿控溫支架基本包裝:
qX2 比色皿控溫支架
TC 1B–溫度控制器
NIST可追蹤校準(zhǔn)和性能數(shù)據(jù)
磁力攪拌棒、干氣管道和電纜
攪拌速度最佳性能:60-1800 rpm

qX2 比色皿控溫支架可選配件:
T-App
/E-qX2 – High temperature option for qX2
/L-qX2 – Low temperature option for qX2
SLITS/qX2
Probe/10k-qX


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