PREVAC 標(biāo)準(zhǔn)磁控濺射系統(tǒng)
PREVAC 的標(biāo)準(zhǔn)磁控濺射系統(tǒng)采用獨立式設(shè)計，結(jié)合經(jīng)驗證的標(biāo)準(zhǔn)解決方案，使薄膜沉積過程更為簡便、高效且可靠。
根據(jù)不同需求，PREVAC 標(biāo)準(zhǔn) MS 系統(tǒng)可在單一腔體中實現(xiàn)多種磁控濺射沉積技術(shù)的靈活配置。每套系統(tǒng)都配備通用安裝法蘭，可用于“向下濺射”或“向上濺射”的磁控濺射沉積，也可以與其他薄膜沉積技術(shù)組合使用，極大地提升了系統(tǒng)的通用性與功能性，是表面科學(xué)涂層研究中一款多功能、強大且易于操作的設(shè)備。
產(chǎn)品特點
非常適合沉積金屬與介電薄膜
標(biāo)準(zhǔn)腔體尺寸：? 570 mm
腔體源口標(biāo)準(zhǔn)配置示例：
極限真空度：10?? mbar 至 UHV 范圍
配備 二維操作器（2-軸 Manipulator）：
配固態(tài)碳化硅（SiC）加熱元件，壽命長，性能穩(wěn)定
可達高溫：最高 1200°C
多種尺寸與形狀的基片支架（10×10 mm 至 6 英寸，其他規(guī)格可定制）
支持濺射模式：向上濺射（Sputter-Up）和向下濺射（Sputter-Down）
氬氣自動流量控制（質(zhì)量流量控制器）
可整合原位表征工具（可選）：
等離子發(fā)射監(jiān)測儀（PEM）
橢偏儀
反射率測量儀
石英晶體厚度監(jiān)控器
紅外高溫計等
多源控制方式：
可使用單一電源與切換網(wǎng)絡(luò)驅(qū)動多個濺射源
也可為共沉積應(yīng)用配備多個獨立電源
具備快速裝樣功能：
前門開啟式結(jié)構(gòu)
或帶負載鎖（Load Lock）腔體，便于快速進樣出樣
腔體底部法蘭帶濺射源裝置，可使用專用升降小車進行全方位訪問或更換
配備 19 英寸電子機柜，集成所有控制單元
Synthesium 控制軟件：提供完整沉積過程與設(shè)備控制界面
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)與優(yōu)勢說明
本系統(tǒng)的一大顯著優(yōu)勢是對工藝腔體的易于接入，可通過以下三種方式實現(xiàn)：
前門直接開啟，
頂部法蘭自動升起（配有電動升降機構(gòu)與安全傳感器保護），
或通過底部法蘭更換，利用專用設(shè)計的小車進行拆卸和更換。
因此，無論是更換磁控靶材、基片操作器，還是整個底部法蘭的拆裝維護，均可快捷、高效完成。
⚙️ 頂部升降機構(gòu)為電動驅(qū)動，設(shè)有多重傳感器保護機制，確保安全運行。
適用領(lǐng)域
典型應(yīng)用與材料示例（Applications & Examples）
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 示例材料 |
|---|---|
| 單層和多層導(dǎo)電膜（用于微電子與半導(dǎo)體器件） | Al、Mo、Mo/Au、Ta、Ta/Au |
| 半導(dǎo)體金屬化屏障層 | TiN、W-Ti |
| 磁性薄膜 | Fe、Co、Ni、Fe-Al-Si、Co-Nb-Zr、Co-Cr、Fe-Ni-Cr、Fe-Si、Co-Ni-Cr、Co-Ni-Si |
| 光學(xué)鍍膜 – 金屬反射層 | Cr、Al、Ag |
| 光學(xué)鍍膜 – 電介質(zhì)層 | MgO、TiO?、ZrO? |
| 光掩膜（Photomasks） | Cr、Mo、W |
| 透明氣體/蒸汽阻隔層 | Al?O? |
| 透明導(dǎo)電膜 | InO?、SnO?、In-Sn-O（ITO） |
