032 PRIMS 基礎(chǔ)型磁控濺射系統(tǒng)

簡單且功能齊全的濺射沉積裝置，用于可重復(fù)的薄膜層應(yīng)用。?即插即用的緊湊設(shè)計。?

工藝腔室包含 3 個磁控濺射源端口（用于金屬和無機(jī)物），安裝在濺射配置中。最多可同時使用兩個源（共沉積）基板階段適用于直徑高達(dá)2英寸的樣品，具有加熱和旋轉(zhuǎn)選項。?

標(biāo)準(zhǔn)磁控濺射系統(tǒng)

磁控濺射系統(tǒng)的獨立配置與我們經(jīng)過現(xiàn)場驗證的標(biāo)準(zhǔn)解決方案相結(jié)合，使沉積工藝變得簡單、高效和可靠。?

根據(jù)您的需求，我們的標(biāo)準(zhǔn) MS 系統(tǒng)可在單個腔室中靈活地使用多種濺射沉積技術(shù)。每個系統(tǒng)都有一個通用安裝法蘭，可配置為磁控濺射沉積（使用濺射或濺射配置）或任何其他薄膜沉積技術(shù)的組合。這使得PREVAC標(biāo)準(zhǔn)MS系統(tǒng)成為一個多功能、強(qiáng)大和簡單的裝置，可以滿足表面科學(xué)涂層領(lǐng)域的大多數(shù)需求。?

半工業(yè)磁控濺射系統(tǒng)

半生產(chǎn)型 HV 系統(tǒng)，用于快速和可重復(fù)的薄層應(yīng)用過程，并提供最大程度的自動化操作支持。

工藝腔室設(shè)計允許結(jié)合多種沉積技術(shù)，其中包括：DC/RF 磁控濺射、反應(yīng)濺射和使用電子束的蒸發(fā)。電子柜配有配備大型觸摸屏和用戶友好型軟件的集成計算機(jī)，將使基材的涂層過程順利而輕松。

高級磁控濺射系統(tǒng)

定制的多腔室高精度沉積平臺，采用模塊化、用戶友好的系統(tǒng)設(shè)計方法。經(jīng)過現(xiàn)場驗證的腔室設(shè)計結(jié)合了 PREVAC 以及其他制造商制造的各種典型或非標(biāo)準(zhǔn)組件，可實現(xiàn)高質(zhì)量的逐層鍍膜。