適用于樣品表面高均勻性離子刻蝕的超高真空（UHV）系統(tǒng)。推薦用于表征技術(shù)（如透射電子顯微鏡 TEM）樣品制備。
系統(tǒng)特點(diǎn)
- 全電動(dòng)二維操控器，配備快速操作的自動(dòng)快門(mén)和集成法拉第杯
- 操控器配備高效水冷系統(tǒng)，確保在工藝過(guò)程中溫度穩(wěn)定
- 可適配多種盤(pán)式樣品夾具，支持最大至6英寸樣品
- 支持無(wú)柵/有柵、射頻（RF）/直流（DC）離子源
- 專(zhuān)用軟件與人機(jī)界面設(shè)備，用于控制與監(jiān)控工藝流程及全部組件
- 內(nèi)部防護(hù)襯里/屏蔽裝置
- 底部法蘭接口，可用于如電子束蒸發(fā)器等設(shè)備
- 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)便于擴(kuò)展以適配傳輸系統(tǒng)
- 前開(kāi)門(mén)設(shè)計(jì)，便于進(jìn)入處理腔體
