iPLD 系統(tǒng)

• 在各種環(huán)境條件下使用激光燒蝕噴涂材料
• 通過將基材加熱到?1200°C 的高溫，準(zhǔn)備用于涂覆薄層的基材，包括在反應(yīng)氣體（例如氧氣）的環(huán)境中
• 壓力穩(wěn)定值范圍廣：從 5×10 起^-10至 10 mbar
• 一種通過集成?RHEED 控制和成像來表征沉積層的快速方法
• 蛋雞生產(chǎn)過程中工藝條件的可重復(fù)性
• 科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用中的標(biāo)準(zhǔn)化
• 通過一個軟件實(shí)現(xiàn)流程和服務(wù)自動化
• 垂直PLD 工藝幾何形狀
• 帶有激光束驅(qū)動系統(tǒng)的準(zhǔn)分子或?YAG?激光器
• 5 軸，電動基板機(jī)械手
  
• 不同的基板支架尺寸：從 10×10 mm 到 2 英寸
• 帶有原位目標(biāo)交換系統(tǒng)的六位目標(biāo)機(jī)械手
• 目標(biāo)支架尺寸：1 或 2 英寸
• 全自動或手動靶材和基材轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
  極限壓力從?1×10^-8至 5×10^-11?mbar 的 mbar 取決于泵送系統(tǒng)?
• 泵送系統(tǒng)（基于前級泵、TMP、離子泵和TSP）
• 帶設(shè)備的真空計(jì)
• 用于沉積速率測量和厚度監(jiān)測器的石英天平，帶有 Z 機(jī)械手，用于測量焦點(diǎn)的速率
• 用于樣品架和目標(biāo)的?Load Lock 室
• 可靠、快速的線性傳輸系統(tǒng)，從負(fù)載鎖到工藝室
• Viewports – 帶百葉窗的觀察窗
• 烘烤前帶有集成吹掃管的水冷系統(tǒng)
• Bakeout 系統(tǒng)?
• 系統(tǒng)的可調(diào)節(jié)剛性主機(jī)架?
• 帶有電子元件的機(jī)柜與框架集成在一起

描述

工藝室包含 6 個靶材和一些用于在襯底上沉積的材料。該階段適用于直徑最大2英寸的樣品，具有冷卻/加熱和旋轉(zhuǎn)選項(xiàng)。自動或手動 PLD 系統(tǒng)能夠毫不費(fèi)力地將目標(biāo)和基板從負(fù)載鎖轉(zhuǎn)移到 PLD 機(jī)械手站。?

工藝腔室配有 UHV 標(biāo)準(zhǔn)的連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來的設(shè)備，包括：?

• 激光
• 具有一定溫度范圍的基板機(jī)械手，
• 目標(biāo)縱器 /
• 帶電源的離子源，用于清潔、蝕刻或活化基板表面，
• 泵送系統(tǒng)（基于備用泵、TMP、離子泵和TSP泵），
• 帶設(shè)備的真空計(jì)，
• 用于線性傳輸系統(tǒng)的入口，例如來自負(fù)載鎖、徑向分配室、傳輸隧道或運(yùn)輸箱，
• 帶 Z 機(jī)械手的石英天平，
• RHEED/TorrRHEED 與設(shè)備，
• 電動或手動快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
• 額外的氣體劑量，例如。對于反應(yīng)沉積過程，
• viewports – 帶百葉窗的觀察窗，
• 殘余氣體分析儀 /
• 光束通量監(jiān)測器 /
• 診斷設(shè)備的加熱視口。

最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。?

如果需要，系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺進(jìn)行組合和集成。?

泵送系統(tǒng)與工藝室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合，可達(dá)到 1×10 范圍內(nèi)的極限壓力^-8– 5×10^-11mbar，具體取決于泵的配置。泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪分子泵或鈦升華泵，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。?

Synthesium?過程控制軟件允許各種類型和制造商的來源進(jìn)行集成和完美合作，并實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動生長控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于 Tango 開源設(shè)備集成新的附加組件。

該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個包含的研究設(shè)備。

選項(xiàng)

• RHEED/TorrRHEED?帶設(shè)備
• 電動或手動快門（跟隨基材），用于鄰近圖層或掩模
• 激光功率傳感器
• 額外的儲存室
• 內(nèi)部防護(hù)罩
• 防止交叉污染的防護(hù)罩
• 帶電源的離子源，用于清潔、蝕刻或活化基板表面
• 真空手提箱（運(yùn)輸箱），在負(fù)載鎖室中帶端口
• 額外的氣體計(jì)量，例如。用于反應(yīng)沉積工藝
• 殘余氣體分析儀
• 光束通量監(jiān)測器
• 用于診斷設(shè)備的加熱視窗
• 高溫計(jì)
• 橢圓儀
• 通過PLC單元和Synthesium軟件完全控制沉積過程和設(shè)備?

應(yīng)用

該站可以創(chuàng)造新材料，例如納米材料、納米傳感器、植入物、支架、催化劑、光伏電池、通用儲能、鋼、輕合金、復(fù)合材料、超導(dǎo)體、抗菌層等。它可用于生物醫(yī)學(xué)工作以及微納米電子學(xué)、光電子學(xué)等的新解決方案。