定制的多腔室高精度沉積平臺(tái)，采用模塊化、用戶友好的系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法。經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的腔室設(shè)計(jì)結(jié)合了 PREVAC 以及其他制造商制造的各種典型或非標(biāo)準(zhǔn)組件，可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的逐層鍍膜。

特征

• 多腔室和多技術(shù)沉積研究平臺(tái)，具有許多有用的配置和選項(xiàng)
• 非常適合沉積金屬和介電薄膜
• 可提供不同尺寸的工藝腔室：? 450、? 570 和 ? 715 mm（可根據(jù)要求提供其他尺寸），具體取決于源的類型和數(shù)量
• 極限壓力范圍 10^-7mbar 到 UHV
• 2 軸機(jī)械手，帶有由固體 SiC 制成的穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的加熱元件和接收站，可實(shí)現(xiàn)高達(dá) 1200 °C 的高溫
• 帶有兩級(jí)接收站的機(jī)械手，用于襯底支架，以滿足共聚焦和平面磁控管配置的要求
• 各種基板支架尺寸（從 10×10 毫米到 6 英寸，可根據(jù)要求提供其他尺寸）和形狀
• 提供濺射和濺射布置
• 在?DC、RF?和脈沖 DC 模式下運(yùn)行
• 單獨(dú)或以共沉積模式作，以生產(chǎn)各種薄膜成分
• 通過(guò)質(zhì)量流量控制實(shí)現(xiàn)?Ar 氣體自動(dòng)加注
• 可以使用原位表征工具，例如等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器 （PEM）、橢偏儀、反射儀、石英天平或高溫計(jì)溫度測(cè)量系統(tǒng)
• 多個(gè)源由單個(gè)電源和開關(guān)網(wǎng)絡(luò)提供，或由多個(gè)電源提供用于共沉積處理
• 前門通道和/或負(fù)載鎖定室，用于快速且簡(jiǎn)單的基板加載
• 帶源的底部法蘭可以使用專用的升降小車完全訪問(wèn)或更換
• 模塊化框架，可進(jìn)行擴(kuò)展
• 樣品制備解決方案系列，例如手套箱、樣品切割器或?qū)闃悠芳訜帷?a href="http://ayf.org.cn/prevac/tag/%e5%86%b7%e5%8d%b4/" title="View all posts in 冷卻" target="_blank">冷卻、清潔等而設(shè)計(jì)的設(shè)備齊全的制備室。
• 帶電子單元的 19 英寸機(jī)柜
• 專用人機(jī)界面 （HMI） 設(shè)備，用于硬件輕松控制和監(jiān)控
• Synthesium?軟件用于完全控制沉積過(guò)程和設(shè)備

描述

系統(tǒng)的設(shè)計(jì)旨在與任何其他分析或沉積表面科學(xué)技術(shù)、輔助實(shí)驗(yàn)室設(shè)備和任何附件實(shí)現(xiàn)最大兼容性。使用徑向分布或隧道傳輸系統(tǒng)，可以與其他真空室、模塊和裝置集成。

模塊化、用戶友好的系統(tǒng)設(shè)計(jì)方法意味著只需更換通用安裝法蘭即可重新配置整個(gè)系統(tǒng)，這一過(guò)程既快速又簡(jiǎn)單。

可以通過(guò)前門進(jìn)入工藝室，自動(dòng)抬起頂部法蘭，或通過(guò)底部法蘭進(jìn)入，可以使用專門設(shè)計(jì)的手推車進(jìn)行更換。因此，可以輕松快速地更換磁控管靶材、襯底支架機(jī)械手或訪問(wèn)/更換整個(gè)底部法蘭。頂部法蘭的升降機(jī)構(gòu)是電動(dòng)的，并由傳感器提供全面保護(hù)。

可以將機(jī)械手與兩個(gè)或多個(gè)基板支架的接收站一起使用，旨在在此過(guò)程中在一個(gè)腔室中使用共聚焦和/或平面磁控管幾何形狀。磁控管共焦幾何結(jié)構(gòu)是有利的，因?yàn)樗哂辛己玫膶泳鶆蛐浴⒐矠R射的可能性以及機(jī)械手的 R1 軸與襯底一起旋轉(zhuǎn)的可能性。平面幾何形狀的優(yōu)點(diǎn)是蒸發(fā)速率高、工作距離短、材料損失低，并且對(duì)提離過(guò)程沒(méi)有陰影效應(yīng)。

最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。

該系統(tǒng)配置了適當(dāng)?shù)拿芊夂?a href="http://ayf.org.cn/prevac/tag/%e6%b3%b5%e9%80%81%e7%b3%bb%e7%bb%9f/" title="View all posts in 泵送系統(tǒng)" target="_blank">泵送系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn) 10 范圍內(nèi)的基本真空^-7mbar（帶氟橡膠密封門），5×10^-8mbar（帶氟橡膠密封和差動(dòng)泵送門）或 UHV 壓力（無(wú)門，帶快速進(jìn)入負(fù)載鎖以引入襯底）。

工藝腔體配有不同尺寸的 UHV 標(biāo)準(zhǔn)連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來(lái)的設(shè)備，包括：

• 磁控管源 /
• 襯底機(jī)械手 /
• 用于清潔、蝕刻或活化基板表面的離子源，
• 抽水系統(tǒng) /
• 線性傳輸系統(tǒng)、徑向分配室或傳輸隧道的入口端口，
• 氣體加注系統(tǒng)：工藝氣體多達(dá) 4 條管路，質(zhì)量流量控制多達(dá) 4 種氣體，
• 殘余氣體分析儀 /
• 石英天平 /
• 高溫計(jì) /
• 帶探測(cè)器的橢偏儀 /
• viewports （帶百葉窗的觀察窗口），
• 真空計(jì)。

泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級(jí)真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪分子泵或鈦升華泵，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。

Synthesium?過(guò)程控制軟件允許各種類型和制造商的來(lái)源進(jìn)行集成和完美合作，并實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動(dòng)生長(zhǎng)控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于 Tango 開源設(shè)備集成新的附加組件。

該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個(gè)包含的研究設(shè)備。