波蘭PREVAC Standard MS systems磁控濺射系統(tǒng)

波蘭PREVAC Standard MS systems磁控濺射系統(tǒng)

PREVAC Standard MS systems磁控濺射系統(tǒng)的獨(dú)立配置與我們的現(xiàn)場驗(yàn)證標(biāo)準(zhǔn)解決方案,使沉積過程簡便、高效和可靠。?

PREVAC 根據(jù)您的需要,我們的標(biāo)準(zhǔn)MS系統(tǒng)提供

dard MS systems磁控濺射系統(tǒng)

PREVAC Standard MS systems磁控了在一個(gè)單獨(dú)的房間的幾個(gè)噴濺沉積技術(shù)的靈活性。每個(gè)系統(tǒng)都有一個(gè)通用的安裝法蘭,可以配置為磁控濺射沉積(帶有彈射或彈射配置)或任何其他薄膜沉積技術(shù)的組合。這就使預(yù)VAC標(biāo)準(zhǔn)MS系統(tǒng)成為一個(gè)多功能、強(qiáng)大和簡單的單位,以滿足表面科學(xué)涂料領(lǐng)域的大多數(shù)需求。?

PREVAC Standard MS systems磁控濺射系統(tǒng)特點(diǎn)：

  • 獨(dú)立的HV/UHV系統(tǒng),包括高質(zhì)量和高可用性解決方案的濺射過程
  • 最適合沉積金屬和介電薄膜
  • 工藝室標(biāo)準(zhǔn)尺寸:570毫米
  • 示例配置?主室的源端口:2個(gè)磁強(qiáng)的6xdn100cf端口,或10個(gè)dn63cf端口(同時(shí)有5個(gè)磁強(qiáng)管工作),或3個(gè)磁強(qiáng)的5xdn160iosK端口
  • 堿壓?從10開始?-7?M至超高頻
  • 二軸機(jī)械手?具有穩(wěn)定、長壽命的加熱元件,由固體碳化硅和接收站組成,可達(dá)到高達(dá)1200℃的高溫。?
  • A 基板持有的范圍?尺寸(10×10毫米至6英寸,其他尺寸根據(jù)要求)和形狀
  • Sputter-up?和 Sputter-down可用
  • 操作的方式有?DC?, RF?和 Pulsed-DC?方式
  • Ar 氣體自動(dòng)?通過質(zhì)量流量控制?
  • 可能采用現(xiàn)場定性工具,例如:等離子發(fā)射監(jiān)測器(PEM)、橢圓計(jì)、反射計(jì)、石英平衡器或高溫計(jì)溫度測量系統(tǒng)
  • 多個(gè)來源提供單一電源?交換網(wǎng)絡(luò)?,或有多種供應(yīng)品?共同作證?加工
  • 前門入口?和/或用于快速和方便襯底裝載的負(fù)載鎖定室
  • 底部法蘭 有可能是?完全訪問?或用專用起重車更換
  • 19″帶有電子單元的櫥柜
  • ?Synthesium軟件全面控制沉積過程和設(shè)備?

PREVAC Standard MS systems磁控濺射系統(tǒng)應(yīng)用：

應(yīng)用程序例子
單層和多層導(dǎo)體薄膜(用于微電子和半導(dǎo)體器件)?Al, Mo, Mo/Au, Ta, Ta/Au?
半導(dǎo)體金屬化的屏障層?TiN, W-Ti?
磁學(xué)電影?Fe, Co, Ni, Fe-Al-Si, Co-Nb-Zr, Co-Cr, Fe-Ni-Cr, Fe-Si, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Si??
光學(xué)涂料-金屬(反光)?Cr, Al, Ag?
光學(xué)涂料-介質(zhì)?MgO, TiO2, ZrO2?
照相器?Cr, Mo, W?
透明氣體/蒸氣滲透屏障?Al2O3?
透明導(dǎo)體?InO2, SnO2,In-Sn-O (ITO)?

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