離子源IS 40E1——雙透鏡、聚焦、提取器型離子槍。適用于深度剖面（Ar），可與O2、H2、碳?xì)浠衔锖退卸栊詺怏w等反應(yīng)性氣體一起操作。該離子源能夠以推薦的工作距離對(duì)表面的10 mm x 10 mm區(qū)域進(jìn)行光柵處理。它特別適用于XPS、ISS和SIMS中的深度剖面。該源也可用于樣品表面清潔。
特性
特殊配置的鼻錐
使用惰性氣體（Ar）和反應(yīng)性氣體（O2、H2、壽命縮短的碳?xì)浠衔铮┻M(jìn)行操作
連續(xù)可變光斑尺寸
極均勻的火山口/光束輪廓
內(nèi)置可更換燈絲
特高壓氣體入口
室內(nèi)維持特高壓條件
集成掃描和偏轉(zhuǎn)單元
入射電子束角度校正（由IS40-PS電源提供）
選配
維恩質(zhì)量過(guò)濾器
氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
線性偏移：25、50、75、100毫米
泵組（2級(jí)）
真空計(jì)組
技術(shù)參數(shù)
| Mounting flange | DN 40CF (rotatable) |
| Gases | Ar and reactive gases (O2, H2?hydrocarbons with reduced lifetime) |
| Energy range | 0.15 keV – 5 keV |
| Scan area | 10 mm x 10 mm (for working distance of 23 mm) |
| Current density | up to?4 mA / cm2?(for distance 23 mm) |
| Beam current | > 1 μA (for distance 23 mm) |
| Cathode type | yttrium oxide coated iridium filament |
| Small cone angle | 50° |
| Insertion length | 163 mm (standard), OD: 34 mm |
| FWHM | dependent on working distance (e.g. < 150 μm for distance 23 mm) |
| Typical working distance | 23 – 120 mm |
| Bakeout temperature | 250 °C |
| Working pressure | 10-8?mbar (with max beam current) |
