描述

定制的多室 UHV 系統(tǒng)，專用于在寬溫度和壓力范圍內(nèi)研究固態(tài)表面的化學(xué)和物理特性。

規(guī)格

多室系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于在非常好的控制條件下通過(guò)不同方法研究和修改固體表面。帶有附加分析室和輔助室的中央徑向分配室滿足這些要求并確保高質(zhì)量的測(cè)量，因?yàn)闃悠吩?UHV 壓力 (<10-10mbar) 下在室之間轉(zhuǎn)移。分析室中的基礎(chǔ)壓力 < 5*10-11 mbar。

• 多功能分析室集成了標(biāo)準(zhǔn)ESCA、橫向分辨率<9μ的ESCA、AES、ISS和UPS等不同的測(cè)量方法。高精度的 5 軸機(jī)械手確保樣品的良好定位，并配備有用于 LN2 的低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內(nèi)冷卻和加熱樣品的加熱器。溫度范圍取決于樣品架，可以在 -180°C 到 2000°C 之間變化。腔室由mu金屬制成，配備有半球分析儀和分析設(shè)備作為離子源、電子源、泛光槍、X射線源，并為許多其他設(shè)備做好準(zhǔn)備?？筛鶕?jù)客戶要求對(duì)設(shè)備進(jìn)行改造。
• 變溫 STM/AFM 室安裝在混凝土板上，該板位于帶有隔振系統(tǒng)的單獨(dú)框架上。分配室轉(zhuǎn)移系統(tǒng)允許將樣品架直接放置到 STM/AFM 接收站，其方式與位于其他室中的機(jī)械手相同。腔室配有電子束蒸發(fā)器，可在測(cè)量過(guò)程中工作。腔室有自己的用于吸頭和樣品的雜志部件，帶有吸頭加熱站和合適的搖擺棒，用于在雜志和 STM 接收站之間運(yùn)輸。
• 三級(jí)制備室，配備LEED、TDS、離子源、電子束蒸發(fā)器、機(jī)械表面清潔器和許多可用于未來(lái)制備或蒸發(fā)裝置的端口。
• 為粉塵樣品泵送準(zhǔn)備的負(fù)載鎖定室，帶有內(nèi)部烘烤系統(tǒng)。
• 切割器室用于切割安裝在合適的樣品架上的樣品。
• 高壓室用于加熱至 650°C 并將樣品在受控氣體氣氛中在壓力下冷卻至 2 MPa
• 用于 6 個(gè)樣品架的樣品停放室。
• 為了最大限度地減少 AFM/STM 測(cè)量過(guò)程中的振動(dòng)，可以關(guān)閉所有機(jī)械泵，系統(tǒng)中的真空僅由離子泵和鈦升華泵產(chǎn)生。