波蘭PREVAC, 科學(xué)產(chǎn)品,沉積系統(tǒng),磁控濺射系統(tǒng),標(biāo)準(zhǔn) MS 系統(tǒng)

標(biāo)準(zhǔn) MS 系統(tǒng)

磁控濺射系統(tǒng)的獨(dú)立配置與我們經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)解決方案相結(jié)合，使沉積工藝變得簡(jiǎn)單、高效和可靠。?

根據(jù)您的需求，我們的標(biāo)準(zhǔn) MS 系統(tǒng)可在單個(gè)腔室中靈活地使用多種濺射沉積技術(shù)。每個(gè)系統(tǒng)都有一個(gè)通用安裝法蘭，可配置為磁控濺射沉積（使用濺射或?yàn)R射配置）或任何其他薄膜沉積技術(shù)的組合。這使得PREVAC標(biāo)準(zhǔn)MS系統(tǒng)成為一個(gè)多功能、強(qiáng)大和簡(jiǎn)單的裝置，可以滿足表面科學(xué)涂層領(lǐng)域的大多數(shù)需求。?

特征

  • 獨(dú)立的 HV/UHV 系統(tǒng)，包括用于濺射工藝的高質(zhì)量和高可用性解決方案
  • 非常適合沉積金屬和介電薄膜
  • 工藝腔室的標(biāo)準(zhǔn)尺寸：? 570 mm
  • 主室源端口配置示例：6 個(gè) DN100CF 端口，用于 2 英寸磁控管或 10 個(gè) DN63CF（5 個(gè)磁控管同時(shí)工作），或 5 個(gè) DN 160 ISO-K 端口，用于 3 英寸磁控管
  • 極限壓力范圍 10-7mbar 到 UHV
  • 2 軸機(jī)械手，帶有由固體 SiC 制成的穩(wěn)定、長(zhǎng)壽命的加熱元件和接收站，可實(shí)現(xiàn)高達(dá) 1200 °C 的高溫?
  • 各種基板支架尺寸（從 10×10 mm 到 6 英寸，可根據(jù)要求提供其他尺寸）和形狀
  • 提供濺射和濺射布置
  • 在?DC、RF?和脈沖 DC?模式下運(yùn)行
  • 通過(guò)質(zhì)量流量控制實(shí)現(xiàn)?Ar 氣體自動(dòng)加注?
  • 可以使用原位表征工具，例如等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器 （PEM）、橢偏儀、反射儀、石英天平或高溫計(jì)溫度測(cè)量系統(tǒng)
  • 多個(gè)源由單個(gè)電源和開(kāi)關(guān)網(wǎng)絡(luò)提供，或由多個(gè)電源提供用于共沉積處理
  • 前門通道和/或負(fù)載鎖定室，用于快速且簡(jiǎn)單的基板加載
  • 帶源的底部法蘭可以使用專用的升降小車完全訪問(wèn)或更換
  • 帶電子單元的 19 英寸機(jī)柜
  • Synthesium?軟件用于完全控制沉積過(guò)程和設(shè)備

描述

該系統(tǒng)的主要優(yōu)點(diǎn)之一是易于進(jìn)入工藝室，這可以通過(guò)前門自動(dòng)抬起頂部法蘭或通過(guò)底部法蘭完成，可以使用專門設(shè)計(jì)的手推車進(jìn)行更換。因此，可以輕松快速地更換磁控管靶材、襯底支架機(jī)械手或訪問(wèn)/更換整個(gè)底部法蘭。頂部法蘭的升降機(jī)構(gòu)是電動(dòng)的，并由傳感器提供全面保護(hù)。?

最終的設(shè)計(jì)和功能取決于系統(tǒng)配置。?

該系統(tǒng)配置了適當(dāng)?shù)拿芊夂?a href="http://ayf.org.cn/prevac/tag/%e6%b3%b5%e9%80%81%e7%b3%bb%e7%bb%9f/" title="View all posts in 泵送系統(tǒng)" target="_blank">泵送系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn) 10 范圍內(nèi)的基本真空-7mbar（帶氟橡膠密封門），5×10-8?mbar（帶氟橡膠密封和差動(dòng)泵送門）或 UHV 壓力（無(wú)門，帶快速進(jìn)入負(fù)載鎖以引入襯底）。?

工藝腔體配有不同尺寸的 UHV 標(biāo)準(zhǔn)連接法蘭，用于連接當(dāng)前和未來(lái)的設(shè)備，包括：?

  • 磁控管源 /?
  • 襯底機(jī)械手 /?
  • 用于清潔、蝕刻或活化基板表面的離子源，?
  • 抽水系統(tǒng) /?
  • 線性傳輸系統(tǒng)或運(yùn)輸箱的入口，?
  • 氣體加注系統(tǒng)：工藝氣體多達(dá) 4 條管路，質(zhì)量流量控制多達(dá) 4 種氣體，?
  • 電動(dòng)或手動(dòng)快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
  • 殘余氣體分析儀 /
  • 石英天平 /
  • 高溫計(jì) /
  • 帶探測(cè)器的橢偏儀 /
  • viewports （帶百葉窗的觀察窗口），
  • 真空計(jì)。

泵送系統(tǒng)是不同類型泵的組合，例如前級(jí)真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪分子泵或鈦升華泵，根據(jù)特定應(yīng)用需求單獨(dú)選擇以實(shí)現(xiàn)最佳泵送性能。?

如果需要，系統(tǒng)的模塊化設(shè)計(jì)允許通過(guò)徑向分布傳輸解決方案或傳輸隧道與任何其他研究平臺(tái)進(jìn)行組合和集成。?

Synthesium?過(guò)程控制軟件允許各種類型和制造商的來(lái)源進(jìn)行集成和完美合作，并實(shí)現(xiàn)輕松的配方編寫、自動(dòng)生長(zhǎng)控制和廣泛的數(shù)據(jù)記錄。允許基于?Tango 開(kāi)源設(shè)備集成新的附加組件。

該系統(tǒng)配備了先進(jìn)、易于使用的電源和電子設(shè)備，用于控制和支持離子源和整個(gè)包含的研究設(shè)備。

選項(xiàng)

  • 高溫計(jì)?– 數(shù)字高溫計(jì)用于大范圍的非接觸式點(diǎn)狀溫度測(cè)量，
  • 橢偏儀?– 分析反射光以確定電介質(zhì)、半導(dǎo)體和金屬薄膜的厚度和折射率。它使用以低入射角從膠片反射的光，
  • 反射計(jì)?– 一種非侵入式工具，用于通過(guò)光譜反射系統(tǒng)快速、實(shí)時(shí)地測(cè)量沉積速率、薄膜厚度、層均勻性和光學(xué)常數(shù)，
  • 等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器 （PEM）?– 用于實(shí)時(shí)等離子體監(jiān)測(cè)而不影響其的光學(xué)發(fā)射光譜技術(shù)，
  • 水冷護(hù)罩?– 作為選項(xiàng)，暗室可以配備 H2O 護(hù)罩 當(dāng)需要降低組件/過(guò)程溫度時(shí)，
  • 屏蔽保護(hù)，防止交叉污染，
  • 電動(dòng)或手動(dòng)快門（跟隨基材），用于鄰近層或掩模，
  • 額外的氣體計(jì)量，例如用于反應(yīng)濺射工藝，
  • 用于診斷設(shè)備的加熱視口，
  • 機(jī)械手的 RF BIAS，
  • 手套箱。

應(yīng)用

應(yīng)用例子
單層和多層導(dǎo)體薄膜（用于微電子和半導(dǎo)體器件）?鋁、鉬、鉬/金、鉭、鉭/金?
用于半導(dǎo)體金屬化的阻擋層?鈦、W-鈦?
磁性薄膜?鐵、鈷、鎳、鐵鋁硅、鈷鈮鈮鋯鋅、鈷鉻、鐵鎳鉻、鐵硅、鈷鎳鉻、鈷鎳硅?
光學(xué)鍍膜 – 金屬（反射）?鉻、鋁、銀?
光學(xué)鍍膜 – 電介質(zhì)?氧化鎂、鈦2、ZrO2?
光掩模?鉻、鉬、鎢?
透明的氣體/蒸汽滲透屏障?鋁2O3?
透明電導(dǎo)體?慣置物2、 SnO2，In-SN-O （ITO）?

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