TES 是一系列離子源、電子源、等離子體源和原子源，基于獲得專利的單腔電子回旋共振（ECR）技術。從相同的核心元件出發(fā)，可以構建各種各樣的源，從用于離子銑削和離子束修形的聚焦束源，到用于注入聚焦離子束（FIB）聚焦柱和表面分析系統(tǒng)的高亮度離子源，到與超高真空兼容的原子氧源，再到用于表面清潔和 / 或離子束濺射沉積的簡單等離子體源或濺射源。

如需更多信息，請聯(lián)系我們。這些源中的每一個都可以安裝剛性或柔性法蘭接頭，以便在真空環(huán)境下移動源。

無柵極超高真空兼容濺射源

適用于樣品清潔，也能夠實現(xiàn)更高的電流密度以進行濺射沉積。

離子銑

考慮到離子束修形和離子銑削應用，該離子源配備了一個聚焦模塊。

沉積輔助離子源

通過在沉積過程中進行高通量低能量離子轟擊來提高薄膜質量。

高亮度離子源

主要用于聚焦離子束柱和表面分析設備。通過簡單的極性切換即可產(chǎn)生正離子和負離子。設計可產(chǎn)生高達 ±30 千伏的離子束。

等離子體源

利用電子回旋共振（ECR）等離子體本身，該源專為下游等離子體清洗 / 遠程源等離子體清洗而設計。

原子源

一種適用于表面處理的源類型，如碳清潔、氧化和氮化形成，損傷極小。原子束是通過從等離子體中過濾帶電粒子產(chǎn)生的。

電子源 / 中和器

基于長壽命電子回旋共振（ECR）的中和器或電子注槍，用于束流 / 表面中和，同時也作為更高束流能量的電子源。

源與法蘭的連接方式：

剛性連接或柔性連接。TES 系列的源既可以通過剛性連接直接安裝在法蘭上，也可以僅通過柔性連接器與法蘭連接，這樣您就可以在系統(tǒng)內(nèi)隨意放置源的位置。

軟件

該軟件的源代碼配備了一個用戶友好的控制與監(jiān)測界面，使您能夠控制光束、記錄數(shù)據(jù)以及運行存儲的配方。圖形用戶界面（GUI）可用于將我們的軟件與其他系統(tǒng)集成。

應用

由于存在不同的可能提取系統(tǒng)以及可定制的束流光學系統(tǒng)，TES 確實是一個多用途的源概念。它可以針對不同應用進行配置，這些應用包括離子束修形、離子銑削、濺射清洗、表面改性、中和、薄膜沉積輔助以及離子束濺射沉積。