美國API ADVANCED PHOTONICS氣體凈化器準(zhǔn)分子激光氣體凈化器C-2000

美國API ADVANCED PHOTONICS氣體凈化器準(zhǔn)分子激光氣體凈化器C-2000

API 是以下工藝技術(shù)開發(fā)領(lǐng)域的全球領(lǐng)導(dǎo)者 用于高級氣體凈化產(chǎn)品API 凈化器滿足 滿足各種高科技行業(yè)的苛刻要求。 無論需求是超高純度工藝氣體、高能量 激光或稀有和特種氣體應(yīng)用,都有合適的 API 產(chǎn)品提供必要的吞吐量和效率,以滿足 應(yīng)用程序的需求。

用于準(zhǔn)分子激光器的 API 氣體凈化器提高了激光器的性能 延長激光機維修間隔。腐蝕性雜質(zhì) 選擇性地去除由激光作用產(chǎn)生的氣體以保持純度 在混合氣體中。請求 API 技術(shù)簡報第 118 號。產(chǎn)品包括 可滿足不同類型準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)的需求

適用于ArF和氟激光應(yīng)用

適用于在 ArF 和 F 上工作的激光器2、LN2冷卻型 C-2000 經(jīng)濟、易于使用且高度可靠。 C-2000 還易于安裝、作和維修。 自動 LN2可以添加重新填充作為額外選項。 C-2000 還可以作為 API C-6000 型凈化器進(jìn)行改裝,用于多氣體作。

顆粒過濾< 0.1 微米;> 99.95% 的留存率
工作溫度77° K.
氣體循環(huán)流量30 標(biāo)準(zhǔn)升/分鐘
氣體壓力范圍1 至 5 巴(絕對壓力)
凈液氮容量14 升
尺寸22 英寸(高)x 19 英寸(寬)x 22 英寸(深)

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