目標(biāo):加熱石墨基座至1200℃,用于沉積鎵砷化物,通過加熱上面的碳石墨,然后將氦氣吹掃過基座,鎵砷化物可以沉積成一個晶圓,需要一個水冷的石英管和大約40升的氦氣(每分鐘),加熱的過程精確度非常重要。
材料:碳石墨基座
溫度:1200℃
應(yīng)用:Ambrell15kw感應(yīng)加熱器,水冷石英管,氦氣,4匝線圈
通過4英寸石英管每分鐘吹掃40升的氦氣
達到1200℃后保持45秒
可觀察到晶圓的產(chǎn)生
頻率:93khz
目標(biāo):加熱石墨基座至1200℃,用于沉積鎵砷化物,通過加熱上面的碳石墨,然后將氦氣吹掃過基座,鎵砷化物可以沉積成一個晶圓,需要一個水冷的石英管和大約40升的氦氣(每分鐘),加熱的過程精確度非常重要。
材料:碳石墨基座
溫度:1200℃
應(yīng)用:Ambrell15kw感應(yīng)加熱器,水冷石英管,氦氣,4匝線圈
通過4英寸石英管每分鐘吹掃40升的氦氣
達到1200℃后保持45秒
可觀察到晶圓的產(chǎn)生
頻率:93khz